Tervetuloa kirjastoon! : Atomic layer deposition of noble metal thin films

Tuloslistaus

Atomic layer deposition of noble metal thin films

Henkilönnimi	Aaltonen, Titta.
Nimeke- ja vastuullisuusmerkintö	Atomic layer deposition of noble metal thin films
Julkaistu	Helsingin Yliopisto, Helsinki : 2005 (Yliopistopaino)
UDK-luokituskoodi	UDK:54
Ulkoasutiedot	71, [49] s. : kuv. ; 25 cm.
Asiasana	ohutkalvot jalometallit
Asiasana - Kontrolloimaton	noble metals thin films
ISBN	(952-91-8460-3) 952-91-8460-3 ( nid.)
	englanti

*00000999nam a22003014a 4500
*0015623
*00520200511215559.0
*008050503s2005\\\\xx\||||||m\\\\||||||eng|c
*020  $a (952-91-8460-3)
*020  $a952-91-8460-3 ( nid.)
*035  $a7913
*035  $a(conv)0000007913
*0410 $aeng
*080  $aUDK:54
*090  $aOMA:G
*099  $d2$p28$k2005114$oG$01$f0$71$y20050503$z20050503$b10744
*1001 $aAaltonen, Titta.
*24510$aAtomic layer deposition of noble metal thin films /$cTitta Aaltonen.
*260  $aHelsinki :$bHelsingin Yliopisto,$c2005$f(Yliopistopaino)
*300  $a71, [49] s. :$bkuv. ;$c25 cm.
*500  $aTiivistelmä ja 8 erip. - Laboratory of Inorganic Chemistry, Department of Chemistry, Faculty of Science, University of Helsinki.
*500  $aVäitöskirja Tekijän lahjoitus.
*502  $aiss. .
*509  $d2005.
*650 7$aohutkalvot$2ysa
*650 7$ajalometallit$2ysa
*653  $anoble metals
*653  $athin films
*852  $lAALTONEN
*979  $a0000007913
*999  $aMikroMarc$b[Thesis]$x9
^

Tästä teoksesta ei ole arvioita.
Näpäytä kun haluat kirjoittaa ensimmäisen arvion.

Kuvausta ei toistaiseksi saatavana

Takakansiteksti